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ICP刻蝕機
• 產品工藝應用類型有Si&Poly刻蝕、介質膜刻蝕、金屬刻蝕、深硅刻蝕、碳化硅刻蝕、氮化鎵刻蝕、氮化鋁刻蝕、光波導刻蝕等。
• 應用于Si基工藝、化合物（包含GaN&GaAs&SiC等）、MEMS領域、濾波器、微顯示等領域。
• 可根據用戶的產品需求靈活的配置不同類型的傳送平臺，適合院校、研發線、中試線、大規模產線的不同應用需求。
• 可根據用戶應用場景提供不同的工藝配置項，以適用于不同膜層的刻蝕，達到客戶的需求。
• 運營成本低。

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CCP刻蝕機
• 產品應用工藝有 Contact/Via刻蝕、Spacer刻蝕、Passivation刻蝕、Hardmask刻蝕、SAB刻蝕、Etch Back。
• 應用于Si基工藝、化合物（包含GaN&GaAs&SiC等）、MEMS領域等領域。
• 可根據用戶的產品需求靈活的配置不同類型的傳送平臺，適合研發、中試線、大規模產線的不同應用需求。
• 運營成本低。