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ALD原子層沉積設(shè)備  
• 薄膜鍍膜技術(shù)。
• 精確控制薄膜厚度和結(jié)構(gòu)，直至納米級(jí)。
• 在精細(xì)的納米結(jié)構(gòu)上，薄膜都能具有較高的一致性和保形性。
• 緊密、無(wú)針孔、無(wú)缺陷薄膜。
• 良好的重復(fù)性。
• 工藝溫度低，可以沉積在溫度敏感的基材。

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邑文的SINO ALD系列
• 產(chǎn)品工藝應(yīng)用類(lèi)型有氧化物、氮化物、金屬等。
• 應(yīng)用于Si基工藝、化合物、MEMS領(lǐng)域、濾波器、顯示等領(lǐng)域。
• 可根據(jù)用戶的產(chǎn)品需求給出對(duì)應(yīng)的產(chǎn)品類(lèi)型，適合院校、研發(fā)線、中試線、大規(guī)模產(chǎn)線的不同應(yīng)用需求。
• 可根據(jù)用戶應(yīng)用場(chǎng)景提供不同的工藝需要，定制化工藝方案（如低溫工藝，等離子體ALD工藝等）。
• 運(yùn)營(yíng)成本低。