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• 產(chǎn)品工藝應(yīng)用類型有：快速熱處理，快速退火，接觸退火，離子注入退火，快速熱氧化，快速熱氮化等工藝。
• 應(yīng)用于Si基工藝、化合物（包含GaN&GaAs&SiC等）工藝、MEMS領(lǐng)域等領(lǐng)域。
• 可根據(jù)用戶應(yīng)用場(chǎng)景在不同氣氛環(huán)境下使用，如惰性氣氛、氧氣、混合氣等不同環(huán)境下使用。
• 高工作溫度1300℃，升溫速率100℃/s，溫度控制精度≤±2℃。